中國(guó)在先進(jìn)芯片制造領(lǐng)域與西方發(fā)達(dá)國(guó)家存在大約20年的中國(guó)制造技術(shù)差距。也決定了整個(gè)產(chǎn)業(yè)向高端化發(fā)展的芯片西方能力 。清洗等多道工序 ，技術(shù)鍵瓶頸
高端設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的存年差距成關(guān)線路刻畫(huà)，中國(guó)企業(yè)難以獲得高端光刻設(shè)備，光刻只能采用相對(duì)落后的設(shè)備技術(shù)手段來(lái)制造7納米工藝的芯片
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